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기능성 혈관전구세포 분화 성공
- 배아줄기세포 및 역분화줄기세포로 부터 기능성 혈관전구세포 분화 성공
- Blood誌 표지논문 게재, 줄기세포를 이용한 혈관질환의 세포치료 가능성 열어
우리학교 한용만 교수팀이 인간배아줄기세포 및 역분화줄기세포로부터 혈관전구세포로의 분화를 성공하였다.
이번 연구에서는 기존에 알려진 배아체형성이나 생쥐세포공배양 방식을 뛰어넘어, 인간배아줄기세포의 신호전달체계의 조절을 통해 혈관전구세포를 분화 유도하였다.
연구팀은 인간배아줄기세포를 분화하기 위해, 인간배아줄기세포의 자가재생산에 매우 중요한 역할을 하는 MEK/ERK 및 BMP 신호전달체계를 조절하여 혈관전구세포를 약 20%가량 분화 유도하였다.
이러한 방식으로 생산된 혈관전구세포는 체외에서 혈관계를 구성하는 혈관내피세포, 혈관평활근세포 및 조혈세포로의 분화가 이뤄졌고, 체내에서도 역시 혈관을 형성함을 누드마우스모델을 통해 확인하였다.
또한, 인간배아줄기세포 유래의 혈관전구세포는 하지허혈성질환동물에 주입하였을 때, 직접 혈관을 형성하거나 혈관형성에 관여하는 성장인자등을 분비하여, 하지허혈성질환동물의 혈류량이 증가한 반면 허혈성 부위의 괴사는 감소하였다.
이번 연구는 교육과학기술부(장관 이주호) 21세기프론티어연구개발사업인 세포응용연구사업단의 연구비 지원으로 수행되었으며, 고규영 교수(KAIST), 최철희 교수(KAIST), 정형민 교수(차의과대학교), 조이숙 박사(한국생명공학연구원) 등이 참여하였다.
연구결과는 올해 9월 美혈액학회지인 "Blood(IF:10.55)"에 표지논문으로 최종 게재되었으며, 국내특허 등록 및 해외 PCT출원을 마친 상태이다.
이 실험결과를 바탕으로, 향후 혈관질환분야에 줄기세포를 이용한 환자맞춤형 세포치료의 가능성을 열어줄 것으로 기대된다.
[그림] 신호전달체계의 조절을 통한 배아 및 역분화 줄기세포의 혈관전구세포의 분화
2010.12.27 조회수 16408 -
양경훈교수팀, 양자효과를 이용한 초고속 IC 세계최초 개발
- 동일 성능 기존 IC 대비 75%의 소비전력 절감 효과 -
KAIST(총장 서남표) 전자전산학과 양경훈(梁景熏, 46) 교수팀은 교육과학기술부 21세기프론티어연구개발사업 중 테라급나노소자개발사업(단장 이조원)의 지원을 받아, 양자 효과 소자인 공명 터널 다이오드(RTD : Resonant Tunneling Diode)를 이용하여, 초고속 통신 시스템의 핵심 부품인 40 Gb/s 급 멀티플렉서 집적회로 개발에 성공했다고 밝혔다.
상온에서 동작하고 기존 소자와 호환이 가능한 공명 터널 다이오드에 2 ㎛ 급 소자 공정기술을 적용해 자체 개발한 이 집적회로는 세계최초로 양자 효과를 이용한 초고속 멀티플렉서로서 나노 전자소자 기술의 실용화 가능성을 제시한 것으로 평가된다.
CMOS, HBT 및 HEMT 등의 전자소자를 이용한 집적회로는 차세대 40 Gb/s 급 이상 통신 시스템의 핵심부품으로 널리 사용되어 왔으나 과도한 전력소모의 문제점으로 인하여 소비전력의 절감이 필수적으로 요구되어 왔다.
연구팀은 디지털 신호를 자체적으로 저장하고 빠른 신호처리가 가능한 공명 터널 다이오드 고유의 부성 미분 저항 특성(NDR : Negative Differential Resistance)을 이용하여, 세계적 반도체 제조기업인 인피니언(Infineon)에서 0.12 ㎛ CMOS 공정 기술을 바탕으로 개발한 40 Gb/s 멀티플렉서(소자 수 42개, 전력소모 100 mW)보다 소자 수는 1/2 이하(19개)로 줄이고 전력소모 또한 1/4(22.5 mW)로 줄이면서 40 Gb/s급 이상에서 동작하는 저전력/초고속 멀티플렉서 집적회로를 개발하였다.
이번 연구에서 개발된 양자 소자를 이용한 회로 설계 기술은 멀티플렉서 이외에, 차세대 초고속 통신 시스템 용의 다양한 디지털 및 아날로그 집적 회로 개발에 응용이 가능한 원천 기술이다. 또한 기존의 HBT, HEMT 등 화합물 반도체 소자 기반 초고속 집적회로의 공정설비를 그대로 이용할 수 있기 때문에 대량생산이 가능하여 향후 차세대 나노/양자 소자 시장을 선도할 수 있는 기술로 기대된다.
이번 연구결과는 5월 26일 프랑스 파리에서 열린 IEEE IPRM 국제학술대회에 발표되었으며 오는 8월 18일, 미국 알링턴에서 열리는 세계적 나노기술 학회인 “IEEE 나노테크놀로지(IEEE International Conference on Nanotechnology)” 학회에서 발표될 예정이다. 이밖에 8월 27일(수) “NANO KOREA 2008”에서도 초청 발표될 예정이다.
2008.06.26 조회수 19289